株式会社信光社
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薄膜基板
ルチル (TiO2) 基板
 
 
 当社では、世界最高クラスのTiO2基板をご提供しております。
 STEP基板やNbをドープした伝導性基板も扱っておりますので是非とも皆様のご研究にお役立て下さい。
 
  ・結晶成長から基板加工まで一貫生産
・世界最高クラスの結晶性
・STEP基板の対応も可能
・Nbドープによる導電基板も対応可能
 
 
結晶構造 正方晶ルチル型構造
格子定数 a=0.459 nm
c=0.295 nm
融点
1840 ℃  
密度
4.252 g/cm3 (20 ℃)
誘電率
113 (1 MHz)
熱膨張係数
(a軸方向)
(b軸方向)
7.81×10-6 /℃
10.1×10-6 /℃
(30〜400 ℃)
(30〜400 ℃)
バンドギャップ
3.0 eV  
屈折率
(at 706.5 nm)
no=2.5490
ne=2.8226
 
抵抗率(Ω・cm)
(typical example)
4.50
0.27
0.16
(Nb: 0.05 wt%)
(Nb: 0.50 wt%)
(Nb: 1.00 wt%)
 
  ●標準品 (太字以外は受注生産品です)
マークの付いている製品には,ステップ基板加工の対応ができます。
 
 
  TiO2
面方位 (100)(110)、(111) 、(001)、(101)
結晶軸公差 ±0.5°
サイズ 10mm×10mm×0.5mmt、15mm×15mm×0.5mmt
研磨 片面/両面
 
  ●Nbドープ品 (太字以外は受注生産品です)
マークの付いている製品には,ステップ基板加工の対応ができます。
 
 
  Nb:TiO2
ドープ量 0.05 wt%
(0.04 at%)
0.50 wt%
(0.43 at%)
面方位 (100)(110)、 (111) 、 (001) 、 (101)
結晶軸公差 ±0.5°
サイズ 10mm×10mm×0.5mmt、15mm×15mm×0.5mmt
研磨 片面/両面
 
   上記以外の仕様につきましても,ご相談ください。
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