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薄膜基板
> 酸化マグネシウム (MgO) 基板
当社では、さまざまな単結晶基板のご要望に対応いたします。各結晶の標準仕様に関しましては、下記をご参照ください。 なお、下記以外の結晶材料につきましても、お気軽にお問合せくださ
酸化マグネシウム (MgO) 基板
結晶構造
立方晶岩塩型構造
格子定数
a=0.4213 nm
融点
2800 ℃
密度
3.59 g/cm
3
誘電率
10 (27℃,1MHz)
熱膨張係数
13.5×10
-6
/℃
●標準品
面方位
(100)
結晶軸公差
±0.5°
サイズ
10mm×10mm×0.5mmt、15mm×15mm×0.5mmt
20mm×20mm×0.5mmt、25mm×25mm×0.5mmt
30mm×30mm×0.5mmt
研磨
片面/両面
アルミン酸ランタン (LAO: LaAlO
3
) 基板
結晶構造
六方晶
格子定数
a=0.5364 nm
c=1.311 nm
融点
2100 ℃
密度
6.52 g/cm
3
誘電率
15〜22 (27℃,1MHz)
熱膨張係数
12.5×10
-6
/℃
●標準品
面方位
(0001)
結晶軸公差
±0.5°
サイズ
10mm×10mm×0.5mmt、15mm×15mm×0.5mmt
20mm×20mm×0.5mmt、25mm×25mm×0.5mmt
30mm×30mm×0.5mmt
研磨
片面/両面
LSAT: (La
0.3
Sr
0.7
)(Al
0.65
Ta
0.35
)O
3
基板
結晶構造
立方晶
格子定数
a=0.7736 nm
融点
1840 ℃
密度
6.79 g/cm
3
誘電率
22 (27℃,1MHz)
熱膨張係数
10×10
-6
/℃
●標準品
面方位
(100)
結晶軸公差
±0.5°
サイズ
10mm×10mm×0.5mmt、15mm×15mm×0.5mmt
20mm×20mm×0.5mmt、25mm×25mm×0.5mmt
30mm×30mm×0.5mmt
研磨
片面/両面
イットリア安定化ジルコニア (YSZ: Y:ZrO
2
) 基板
結晶構造
立方晶
格子定数
a=0.5139nm
融点
2500 ℃
密度
6.05 g/cm
3
誘電率
27 (27℃,1MHz)
熱膨張係数
10.3×10
-6
/℃
●標準品
面方位
(100)、(111)
結晶軸公差
±0.5°
サイズ
10mm×10mm×0.5mmt、15mm×15mm×0.5mmt
20mm×20mm×0.5mmt、25mm×25mm×0.5mmt
30mm×30mm×0.5mmt
研磨
片面/両面
スピネル (MgAl
2
O
4
) 基板
結晶構造
立方晶スピネル型構造
格子定数
a=0.8083 nm
融点
2130 ℃
密度
3.6 g/cm
3
熱膨張係数
7.45×10
-6
/℃
●本製品につきましては,受注生産対応とさせていただいております。
面方位・サイズ等お気軽にご相談ください。
上記以外の仕様につきましても、ご相談下さい。
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