酸化チタン(ルチル)TiO2(Rutile)

ルチルは複屈折性を用いた光学材料用途以外にも、
エピタキシャル成長用基板としても注目されています。
弊社は、ベルヌーイ法による結晶成長から、基板加工まで一貫生産を行っております。
ルチル結晶としては、大きさ、品質、生産量とも世界トップレベルを誇っています。

 

Nbをドープし導電性を持たせたNb:TiO2基板や原子レベルで平坦なSTEP基板もご提供しております。
様々なエピタキシャル成長に最適なルチル基板を皆様のご研究にお役立て下さい。

物性

組成 TiO2
結晶系 正方晶
結晶構造 ルチル型
格子定数 a=0.45935 nm c=0.29580 nm
融点 1840 ℃
育成方法 ベルヌーイ法
密度 4.252 g/cm3(20 ℃)
誘電率 113 (1 MHz)
熱膨張係数 (30~400℃) (a軸方向)7.81×10-6/℃ (c軸方向)10.1×10-6/℃
バンドギャップ 3.0 eV
屈折率 (at 706.5 nm) no=2.5490 ne=2.8226


ルチル結晶のロッキングカーブ  

標準仕様

 

種類 TiO2 Nb(0.05 wt%) :TiO2 Nb=0.04 at% Nb(0.5 wt%) :TiO2 Nb=0.43 at% Nb(1.0 wt%) :TiO2 Nb=0.86 at%
純度 >99.98 % >99.98 % >99.98 % >99.98 %
抵抗率 (Ω・cm) >107 約5×100 約3×10-1 約1.5×10-1
面方位 (公差:±0.5 °) (100) (110) (001) (100) (110) (001) (100) (110) (001) (100) (110) (001)
サイズ (外形公差±0.1mm 厚み公差±0.05mm) 10×10×0.5t 15×15×0.5t 10×10×0.5t 15×15×0.5 10×10×0.5t 15×15×0.5 10×10×0.5t 15×15×0.5
研磨 片面、両面 片面、両面 片面、両面 片面、両面
表面粗さ Ra≦1.0nm Rmax≦5.0nm Ra≦1.0nm Rmax≦5.0nm Ra≦1.0nm Rmax≦5.0nm Ra≦1.0nm Rmax≦5.0nm
平坦度 (λ=632.8 nm) 10×10≦λ 15×15≦1.5λ 10×10≦λ 15×15≦1.5λ 10×10≦λ 15×15≦1.5λ 10×10≦λ 15×15≦1.5λ
オプション STEP基板 OFF基板 ブレイク溝付き基板 STEP基板 OFF基板 ブレイク溝付き基板 STEP基板 OFF基板 ブレイク溝付き基板 OFF基板 ブレイク溝付き基板

※お客様のご要望により特殊仕様も承りますのでお問い合わせください。
※納期について 標準品:受注後約1週間 特殊仕様品:受注後約1か月~