薄膜成長用酸化物基板
薄膜成長用酸化物基板

弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板として
SrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています。

エピタキシャル成長用基板は、結晶性、基板表面の平滑、平坦性とともに最表面の結晶格子歪の有無が重要です。弊社は長年の技術の蓄積により、結晶育成(一部結晶は除く)から加工まで自社内で一貫生産しており、高精度な加工技術により、加工歪層のない高品質な結晶基板表面に仕上げております。
標準的な仕様は常に在庫を持っており、ご発注後一週間程度でお届可能です。ご希望に合わせて面方位、形状、OFF角度などをオーダーメイドすることも常に行っております。ラインアップにない結晶材料も取り扱っておりますのでご気軽にお問い合わせください。誘電体、超伝導、化合物半導体などのエピタキシャル成長に最適な酸化物結晶基板を提供しております。