チタン酸ストロンチウムSrTiO3

SrTiO3は代表的なペロブスカイト構造をもつ基板として、
強誘電体や超伝導体薄膜などの基板として広く使われております。
弊社では、ベルヌーイ法による結晶成長から、基板加工まで一貫生産を行っており、
品質、生産量とも世界トップレベルを誇っております。

Nbをドープし導電性を持たせたNb:SrTiO3基板や原子レベルで平坦なSTEP基板もご提供しております。
皆様のご研究にお役立て下さい。

物性

組成 SrTiO3
結晶系 立方晶
空間群 Pm3m (Perovskite)
格子定数 a=0.3905 nm
融点 2080 ℃
育成法 ベルヌーイ法
密度 5.122 g/cm3(20 ℃)
誘電率 310 (27℃,1 MHz)
熱膨張係数 11.1×10-6/℃(室温~1000℃)
相転移温度 110 K(正方晶⇔立方晶)
屈折率 2.407 (at 589 nm)

SrTiO3の透過率

 

標準仕様

SrTiO3 Nb(0.05 wt%):SrTiO3 Nb≒0.1 at% Nb(0.5 wt%):SrTiO3 Nb≒1.0 at%
純度 >99.98 % >99.98 % >99.98 %
抵抗率
(Ω・cm)
>107 7~10×10-2 3~7×10-3
キャリア密度
(cm-3)
1~2×1019 1~2×1020
面方位
(公差:±0.5°
(100), (110), (111) (100), (110), (111) (100), (110), (111)
サイズ
(外形公差±0.1mm 厚み公差±0.05mm)
10×10×0.5t
15×15×0.5t
10×10×0.5t
15×15×0.5t
10×10×0.5t
15×15×0.5t
研磨 片面、両面 片面、両面 片面、両面
表面粗さ Ra≦1.0nm
Rmax≦5.0nm
Ra≦1.0nm
Rmax≦5.0nm
Ra≦1.0nm
Rmax≦5.0nm
平坦度
(λ=632.8 nm)
10×10×0.5 t :≦λ
15×15×0.5 t : ≦1.5λ
10×10×0.5 t :≦λ
15×15×0.5 t : ≦1.5λ
10×10×0.5 t :≦λ
15×15×0.5 t : ≦1.5λ
オプション STEP基板
OFF基板
ブレイク溝付き基板
STEP基板
OFF基板
ブレイク溝付き基板
OFF基板
ブレイク溝付き基板
※お客様のご要望により特殊仕様も承りますのでお問い合わせください。