ルチルは複屈折性を用いた光学材料用途以外にも、
エピタキシャル成長用基板としても注目されています。
弊社は、ベルヌーイ法による結晶成長から、基板加工まで一貫生産を行っております。
ルチル結晶としては、大きさ、品質、生産量とも世界トップレベルを誇っています。
Nbをドープし導電性を持たせたNb:TiO2基板や原子レベルで平坦なSTEP基板もご提供しております。
様々なエピタキシャル成長に最適なルチル基板を皆様のご研究にお役立て下さい。
| 組成 | TiO2 |
|---|---|
| 結晶系 | 正方晶 |
| 結晶構造 | ルチル型 |
| 格子定数 | a=0.45935 nm c=0.29580 nm |
| 融点 | 1840 ℃ |
| 育成方法 | ベルヌーイ法 |
| 密度 | 4.252 g/cm3(20 ℃) |
| 誘電率 | 113 (1 MHz) |
| 熱膨張係数 (30～400℃） |
(a軸方向）7.81×10-6/℃ (c軸方向）10.1×10-6/℃ |
| バンドギャップ | 3.0 eV |
| 屈折率 (at 706.5 nm) |
no=2.5490 ne=2.8226 |
ルチル結晶のロッキングカーブ
ルチル(TiO2)の透過率
| 種類 | TiO2 | Nb(0.05 wt%) :TiO2 Nb=0.04 at% | Nb(0.5 wt%) :TiO2 Nb=0.43 at% |
|---|---|---|---|
| 純度 | >99.98 % | >99.98 % | >99.98 % |
| 抵抗率 (Ω・cm) |
>107 | 約5×100 | 約3×10-1 |
| 面方位 （公差：±0.5 °） |
(100) (110) (001) |
(100) (110) (001) |
(100) (110) (001) |
| サイズ (外形公差±0.1mm 厚み公差±0.05mm) |
10×10×0.5t 15×15×0.5t |
10×10×0.5t 15×15×0.5t |
10×10×0.5t 15×15×0.5t |
| 研磨 | 片面、両面 | 片面、両面 | 片面、両面 |
| 表面粗さ | Ra≦1.0nm Rmax≦5.0nm |
Ra≦1.0nm Rmax≦5.0nm |
Ra≦1.0nm Rmax≦5.0nm |
| 平坦度 (λ=632.8 nm) |
10×10×0.5 t :≦λ 15×15×0.5 t : ≦1.5λ |
10×10×0.5 t :≦λ 15×15×0.5 t : ≦1.5λ |
10×10×0.5 t :≦λ 15×15×0.5 t : ≦1.5λ |
| オプション | STEP基板 OFF基板 ブレイク溝付き基板 |
STEP基板 OFF基板 ブレイク溝付き基板 |
STEP基板 OFF基板 ブレイク溝付き基板 |
※お客様のご要望により特殊仕様も承りますのでお問い合わせください。
※上記は代表的な仕様になります。対応できる仕様などはカタログをご参照いただくか、お問合せ下ささると幸いです。
