STEP基板

STEP基板とは、精密研磨後にエッチングやアニールをすることにより、
原子レベルで平坦なテラス面とSTEPからなる究極の表面を持った基板のことをいいます。
高精度なエピタキシャル成長にはSTEP基板は欠かせません。
弊社では、SrTiO3, Al2O3, TiO2, LaAlO3の単結晶STEP基板を提供しています。

特徴

  • 独自のSTEP処理による高品質なエピタキシャル成長に最適な基板です。
  • 長年の結晶育成によって培われた結晶の少ない高品質の結晶です。
  • 加工変質層がなく平坦度に優れた高い加工精度の基板です。
  • 通常の基板より高い精度(±0.3°)で面方位出しをしております。
  • 精密洗浄後、専用ケースに真空パックし出荷しております。
  • 基板1枚ごとにAFMデータを添付しております。

STEP高さ、テラス幅、OFF角の関係

 

標準仕様

結晶系 面方位 基板サイズ ドープ
Al2O3 三方晶 (0001) 10×10×0.5 t
15×15×0.5 t
SrTiO3 立方晶 (100) 10×10×0.5 t
15×15×0.5 t
Nb:0~0.05 wt%
(≒0.1at%)
TiO2 正方晶 (110) (100) 10×10×0.5 t
15×15×0.5 t
Nb:0~0.05 wt%
(≒0.04at%)
LaAlO3 擬立方晶 (100) 10×10×0.5 t
15×15×0.5 t

各種基板のSTEP高さ

種類 面方位 STEP高さ(nm)
(理論値)
SrTiO3 (100) 0.39
Al2O3 (0001) 0.21
TiO2 (110) 0.32
TiO2 (100) 0.23
LaAlO3 (100) 0.38

STO(100)のOFF角度とテラス幅

OFF角度(°) テラス幅(nm)
(理論値)
0.10 223
0.15 149
0.20 112
0.25 89
0.30 74
0.50 45
1.00 22

※お客様のご要望により特殊仕様も承りますのでお問い合わせください。

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